KLA Filmetrics R50系列電阻測試儀，提供接觸式四點探針(4PP)與非接觸式電渦流(EC)兩種測量方案，測量范圍跨越10個數(shù)量級，精度高達(dá)±0.2%。專為半導(dǎo)體制造、柔性電子產(chǎn)品、太陽能電池等行業(yè)的導(dǎo)電薄膜電阻與厚度測量而優(yōu)化，確保卓越的測量重復(fù)性和準(zhǔn)確性。立即咨詢，獲取專業(yè)解決方案。
KLA R50 四探針薄膜方阻測繪系統(tǒng)是KLA電阻測試系列的產(chǎn)品。電阻測量和監(jiān)控對于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都相當(dāng)重要，從半導(dǎo)體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品。KLA R50 四探針薄膜方阻測試儀在金屬膜均勻性分布、離子摻雜和注入表征、薄膜厚度和電阻率分布、以及非接觸膜厚等量測領(lǐng)域均可涉及。
接觸式四點探針(4PP)和非接觸式電渦流(EC)配置；
100mmZ行程,高精度控制；
導(dǎo)體和半導(dǎo)體薄膜電阻，10個數(shù)量級范圍適用；
測試點自定義編輯,包括矩形、線性、極坐標(biāo)以及自定義配置;
200mmXY電動平臺;
RSMapper軟件靈活易用;
兼容KLA所有薄膜電阻測量探針;
四點探針(4PP)由四個導(dǎo)電探針組成的探頭以可控力接觸導(dǎo)電層表面,其中在被測導(dǎo)電層和襯底之間有非導(dǎo)電阻擋層。標(biāo)準(zhǔn)測量的探針配置是在兩個外側(cè)探針之間施加電流并在兩個內(nèi)側(cè)探針之間測量電壓。測量薄膜電阻時，導(dǎo)電層厚度應(yīng)小于兩個探針之間距離的1/2。KLA在R50四探針薄膜方阻測試儀上研發(fā)了雙模技術(shù)，該技術(shù)允許測量間隔探針上的電壓，并配置了邊界效應(yīng)動態(tài)校正和探針間距誤差補償功能。KLA提供了豐富的探針類型以適用和優(yōu)化不同表面材料的特性表征測量，幾乎可用于任何導(dǎo)電薄膜或離子注入層。
電渦流(EC)是非接觸式導(dǎo)電薄膜測量技術(shù)。通過線圈施加時變電流以產(chǎn)生時變磁場，當(dāng)該磁場靠近導(dǎo)電表面時，會在該表面中產(chǎn)生感應(yīng)時變電流（渦流)。這些電渦流反過來會產(chǎn)生它們自己的時變磁場，該磁場與探針線圈耦合并產(chǎn)生與樣品的電阻成比例的信號變化。KLA特殊的EC技術(shù)，單個探頭位于樣品頂部，可以動態(tài)的調(diào)整每個測量點的探頭高度，這對測量的準(zhǔn)確性和重復(fù)性相當(dāng)重要。EC法不受探頭尺寸或表面氧化的影響，非常適合較軟的或其它不適用于4PP接觸法測量的樣品。
半導(dǎo)體 | 平板和VR顯示 | 化合物半導(dǎo)體 | 先進(jìn)封裝 |
太陽能 | 印刷電路 | 穿戴設(shè)備 | 導(dǎo)電材料 |
金屬薄膜的薄膜電阻均勻性對于確保元件性能相當(dāng)重要，大多數(shù)金屬薄膜都可以通過4PP和EC進(jìn)行測量。EC推薦用于較厚的高導(dǎo)電金屬膜，4PP適用于較薄的金屬膜(>10Ω/sq)，但無論如何，4PP/EC均表現(xiàn)出很高相關(guān)性，從而可以確保使用任何一種方法都可以獲得準(zhǔn)確的結(jié)果。KLA R50 四探針電阻率測量儀電阻分布圖可以表征薄膜均勻性、沉積質(zhì)量及其它工藝波動。
4PP法是衡量離子注入工藝的標(biāo)準(zhǔn)測量技術(shù)。在熱退火后通過測試離子注入分布可以識別由于燈故障、晶圓/平臺接觸不良或注入劑量變化而引起的熱點和冷點。對于硅離子注入層，熱退火工藝對于活化摻雜離子是必要的。
通過采集的晶圓數(shù)據(jù)，KLA R50 四探針薄膜方阻測試儀可以繪制出薄膜電阻、薄膜厚度或電阻率分布圖。通過輸入材料的電阻率,可以計算和顯示膜厚分布;或者通過輸入膜厚數(shù)據(jù),則可以計算電阻率分布。
KLA R50 四探針薄膜方阻測試儀的RSMapper軟件將數(shù)據(jù)采集和強大的分析功能結(jié)合在一起，擁有直觀的可視化界面，即可以用于設(shè)備本身，也可以進(jìn)行離線使用。軟件自帶的各種坐標(biāo)布局工具可以幫助用戶輕松設(shè)置數(shù)據(jù)測量點。
Z范圍： | 60mm | Z平臺類型： | 自動 |
X-Y平臺類型： | 自動 | 樣品臺最大承重： | 2.5kg |
傾斜樣品臺： | ±5°手動 | ||
電學(xué)性能 | |||
R50-4PP | R50-EC | ||
測量點重復(fù)性： | <0.02% | <0.2% | |
準(zhǔn)確性： | ±0.2% | ±1% | |
更多參數(shù)可聯(lián)系我們獲取 | |||
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